化学上制取高纯硅的方法如下:①用碳在高温下还原二氧化硅,可制得含有少量杂质的硅,同时有CO生成;②将

kuaidi.ping-jia.net  作者:佚名   更新日期:2024-07-29
工业上用SiO2为原料制取高纯硅的各步化学方程式是

SiO2+2C=Si+2CO(气体符号,高温)
Si+2Cl2=SiCl4(高温)
SiCl4+2Cl2=Si+4HCl(高温)

因为一氧化碳的还原性不够还原二氧化硅
只有碳有足够的还原能力
所以生成了一氧化碳就是最终产物了

①由“用碳在高温下还原二氧化硅,可制得含有少量杂质的硅,同时有CO生成”可知反应物是碳和而氧化硅,生成物是硅和一氧化碳,反应条件是高温,故答案为:2C+SiO 2
 高温 
.
 
Si+2CO↑;
②由“硅在高温下与氯气(Cl 2 )反应生成四氯化硅”可知反应物是硅和氯气,生成物是四氯化硅,条件是高温,故答案为:Si+2Cl 2
 高温 
.
 
SiCl 4
③由“四氯化硅在高温下与氢气反应,就可以得到高纯度的硅,同时生成HCl”可知反应物是四氯化硅和氢气,生成物是硅和氯化氢,条件是高温,故答案为:2H 2 +SiCl 4
 高温 
.
 
Si+4HCl.


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