真空镀原理
真空镀膜机的原理
答：说来话长，简单点的话就是：阴极被激发的电子在电场作用下加速飞向衬底基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和二次电子，二次电子飞向衬底基片。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在衬底上形成薄膜。二次电子在加速飞向衬底的过程中受到...
真空镀膜机各泵工作顺序,原因,原理
答：真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。原理是将扩散泵油加热至沸腾，气化的油雾通过喷油嘴向四周喷射，扩散泵的四周有冷却水管或者水套，将喷射的油雾冷却液化流下至泵...
水性电镀 真空电镀有什么 区别
答：原理和工艺不同，电镀是基于电化学反应原理，在含有需镀金属离子的溶液中通以直流电，使该金属离子在阴极（工件）获得电子变成金属，沉积在镀件上，即为镀层，真空镀是基于物理气相沉积原理，使需镀金属或氧化物或合金在高真空下高温气化，沉积在镀件上；设备不同，电镀主要设备是直流电源、镀槽等，真空...
真空镀膜机的几种镀膜方法?
答：真空镀膜技术，简单地来说就是在真空环境下，利用蒸发、溅射等方式发射出膜料粒子，沉积在金属、玻璃、陶瓷、半导体以及塑料件等物体上形成镀膜层。它的主要方法包括以下几种：真空蒸镀 其原理是在真空条件下，用蒸发器加热膜料，使其气化或升华，蒸发粒子流直接射向基片，并在基片上沉积形成固态薄膜的...
电镀和真空镀有什么区别
答：一、原理不同 1、电镀：利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程，是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺。电镀过程是镀液中的金属离子在外电场的作用下，经电极反应还原成金属原子，并在阴极上进行金属沉积的过程。2、真空镀：采用在真空条件下，通过蒸馏或...
半透明真空镀是怎样做出来的呢?
答：你说的是大概是五金的离子溅射镀铬的，需要在清洗后烘烤，其目的是因为产品在超声清洗后表面带一些水，而真空泵抽水蒸汽的能力比较差，如果不烘烤的话，抽气时间会长些，也有可能会导致掉膜。至于参数，每台机器设计不同多多少少都有差异，关键是看产品的品质要求，只要达到了膜厚要求就可以了。
PVD涂层技术真空镀膜流程原理及特点
答：揭秘PVD涂层技术：真空镀膜工艺的奥秘与魅力 物理气相沉积（Physical Vapor Deposition, PVD），如同魔术师手中的魔法，是工业制造领域的一项关键技术，它通过物理手段在表面披上一层薄而坚硬的镀层。PVD的工艺流程犹如一首精密的交响曲：PVD前的准备工作: 清洗工件，确保表面洁净，然后送入真空炉中，开始抽...
真空镀膜设备原理
答：使单个电子轨迹呈三维螺旋状，而不是仅仅在靶面圆周运动。至于靶面圆周型的溅射轮廓，那是靶源磁场磁力线呈圆周形状形状。磁力线分布方向不同会对成膜有很大关系。在E X B shift机理下工作的不光磁控溅射，多弧镀靶源，离子源，等离子源等都在次原理下工作。所不同的是电场方向，电压电流大小而已。
真空镀膜和光学镀膜有什么区别
答：2、光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。二、原理的区别 1、真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技...
什么是“真空溅镀”?它与“真空蒸镀”有什么区别?
答：“真空溅镀”和“真空蒸镀”都是真空镀膜技术的两种主要形式，但它们的工作原理有所不同。1. **真空溅镀**：这是一种物理气相沉积（PVD）的方法。在溅镀过程中，目标材料（例如金属）被离子束轰击，使其表面的原子或分子被“溅”出，然后这些原子或分子在真空环境中飞向基材并在其表面沉积形成薄膜...
网友看法：
干舍15614857081：
真空离子镀的原理? -
永济市俟绿：: 真空离子镀膜是一项於真空状态下沉积镀层之物理汽相沉积(PVD)工艺;对环境是完全没有污染,为绿色环保工艺;而性能在表面极大硬度' 美观'耐蚀' 抗磨'抗氧化等性能.
干舍15614857081：
半透明真空镀是怎样做出来的呢? -
永济市俟绿：: 你说的是大概是五金的离子溅射镀铬的,需要在清洗后烘烤,其目的是因为产品在超声清洗后表面带一些水,而真空泵抽水蒸汽的能力比较差,如果不烘烤的话,抽气时间会长些,也有可能会导致掉膜. 至于参数,每台机器设计不同多多少少都有差异,关键是看产品的品质要求,只要达到了膜厚要求就可以了.
干舍15614857081：
什么是真空镀?过程是什么,真空可镀什么产品? -
永济市俟绿：: 真空镀膜 主要利用辉光放电(glow discharge)将氩气(Ar)离子撞击靶材(target)表面, 靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜.溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好,但是镀膜速度却比蒸镀慢很多.新型的溅镀设备几乎都...
